自组装单分子层（SAM）在提升钙钛矿太阳能电池性能方面展现出巨大的潜力。然而，其不完全的表面覆盖会暴露NiOx表面的缺陷位点，导致有害的非辐射复合，并加剧钙钛矿的降解。鉴于此，2026年2月1日大连理工大学银冰&史彦涛于Angew刊发埋底界面区域选择性原子层沉积AlOx用于高性能钙钛矿太阳能电池的研究成果，开发了一种区域选择性原子层沉积（AS-ALD）策略，该策略能够在保持SAM覆盖区域的同时，在暴露的NiOx表面精确沉积超薄的AlOx层。这种方法通过阻断NiOx与钙钛矿的直接接触，有效抑制了电荷复合，同时利用AlOx中固有的负固定电荷来吸引空穴并排斥电子。重要的是，SAM覆盖区域不受影响，确保了载流子提取的畅通无阻。此外，沉积的AlOx降低了有害的Ni⁴⁺含量，Ni⁴⁺含量容易引发钙钛矿分解，从而显著提升器件的性能和稳定性。因此，钙钛矿太阳能电池的光电转换效率提高至26.41%，其中钙钛矿组件在64.68 cm²的活性面积上实现了20.88%的效率。器件稳定性显著提高，在1500小时暗储存后（ISOS-D-1）仍保持约95%的初始效率，在85°C下储存800小时后（ISOS-D-2）仍保持约80%，在48次热循环后（ISOS-T-1）仍保持约85%，在1个太阳光照强度下连续照射1300小时后（ISOS-L-1，MPPT）仍保持约90%。
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